Výdejní místo: Škrobárenská 518/16, Brno Více
Filtr třídy ABEK1 P3 slouží k zachycení částic: A organické plyny a páry s bodem varu nad 65°C, B anorganické plyny a páry (kromě oxidu uhelnatého), E oxid siřičitý a další kyselé plyny a páry, K amoniak a organické deriváty amoniaku do koncentrace 1,000 ppm. Částicový filtr P3 zachycuje 99,95% všech prachových a aerosolových částic do velikosti 0,3 µm.
Pro práci např. s rozpouštědly, chlorem, formaldehydem, prachem kyseliny sírové. Částicový filtr P3 je vyroben ze speciálního média HESPA (High Efficiency Synthetic Particulate Airfilter) a umožňuje záchyt částic hexavalentního (šestimocného) chromu a částic manganu při práci s nerezavějícícmi ocelemi, oxidů zinku při práci s pokovenými výrobky, částic hliníku a výparů olova, s filtrem proti nežádoucím pachům.
Schváleno dle EN140: 1998. APF 20.
Cena včetně filtrů.
Hmotnost 258 g
Výrobce: | GVS Filter Technology, UK |
od 1 115,62 Kč vč. DPH
od 922,00 Kč bez DPH
GVS ELIPSE obličejová vysocevýkonná filtrační polomaska ABEK1P3 velikost S/M
Skladem - připraveno k odeslání
Skladem: 5 ks
Konstrukce s extrémně nízkým profilem neomezuje zorné pole a nezasahuje oblast použití ochranných brýlí. Maska je osazena dvěma flexibilními filtry neomezujícími výhled. Precizní a komfortní maska s jedním velkým výdechovým ventilem a nízkou rezistencí při dýchání.Velký zpětný výfukový ventil redukuje nahromaděné teplo. Snadná fixace a přizpůsobení pomocí 4-bodových nastavitelných pásků. Díky technickému řešení snadná a rychlá výměna filtrů (žádné šroubování). Maska je vyrobena ze speciálního medicínského měkkého nealergizujícího polymeru TPE, který se výborně přizpůsobuje anatomii uživatele. Neobsahuje latex ani silikon. Snadná údržba masky - čištění vlažnou vodou a běžným mýdlem